膜厚儀的原理
     膜厚儀的的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，因為吸收剩余的能量而變成不安穩(wěn)的狀況。從不安穩(wěn)狀態(tài)要回到安穩(wěn)狀態(tài)，此物質(zhì)必需將剩余的能量釋放出來，而此刻是以熒光或光的形狀被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度丈量儀或成分分析儀的原理即是丈量這被釋放出來的熒光的能量及強度，來進行定性和定量分析。
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